技术，EUV光刻机光学镜头的难题将得到解决。

    那时EUV光刻机的制造不再是难题，这也意味着他们实现了弯道追赶，掌握自主可控的3纳米芯片制程工艺。

    他觉得，突破离子束抛光技术的时间快了，那怕苏哲那没有进展，靠他们自己，再来两轮差不多就成功了。

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